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    再次来到广蓝路软件园，紫港电子的招牌业已换成了山海微电，重新焕发新生。

    来往的工作人员脸上，写满自豪之情。

    所有人都知道，今天上午，公司即将进行28纳米芯片的生产启动会，若是能圆满成功，就可以成为华国第一家实现中高端芯片大规模量产的半导体企业。

    这意味着大量的订单，急剧膨胀的市值，和丰厚的奖金！

    与公司的每一个人息息相关，在陈河宇掌权后，对山海微电的组织架构梳理重塑，留下来的人基本领到了一份分红股权。

    每到年底，会根据净利润额进行奖金分配，大大提高了员工的研发生产积极性。

    “陈总，芯片的掩膜模板制作完成，我们可以先去光刻机车间参观。”

    何婷波迎了上来。

    “老板。”

    王茂松招呼道。

    “按你说得来，预估良品率能控制在多少？”

    陈河宇走在前方，侧身问道。

    “结合实验室的数据，粗略判断在80%以上。”

    技术方面的核心参数，何婷波最为熟悉，不假思索道。

    “低了一些，要是那100台NXT 1950i DUV光刻机到货以后，还有下降的空间吗？”

    陈河宇追问道。

    20%的报损率着实有些高，但没办法，山海微电的光刻机大多都是老旧的设施，能正常刻录芯片就算不错了，不敢奢望太多。

    对比国产光刻机70%的良品率，这个数值勉强还能接受。

    “估计可以做到90%！”

    何婷波回道。

    英特、波通这些芯片巨头，基本也是使用的NXT 1950i DUV光刻机，良品率稳定在90%。

    “嗯，我知道了。”

    陈河宇点点头回道，在EUV光刻机还未诞生的年代，90%的良品率实属不易。

    要等到2018年，EUV光刻机得到广泛应用，才能应对日益精密的半导体制造需求，极大提升良品率问题。

    这是因为EUV光刻机采用的是极紫外光源，而DUV光刻机使用的是深紫外光源。

    EUV光源的波长约为13.5纳米，比DUV光源的波长要短得多，可以实现更加精细的分辨率和更小的工艺尺寸，较短的波长能够产生更细腻的图像。

    但并不是没有缺点，制造和维护成本都较高，光源的稳定性、镜片制造依旧是个难题，没有三五年，想要应用到半导体工业中，简直痴心妄想。

    一行人来到制造部门，换上无尘服、静电消除鞋、帽子和头套，以及防护面罩，以应对车间中可能存在的一些化学品喷洒、粉尘飞扬等风险。

    众人站在一旁，随着陈河宇示意。

    一名操作员出列，立马取出一块8英寸晶圆，经过仔细观察，确保表面没有任何杂质和污染物，又拿出带有电路图案的透明底片，也就是光掩膜的模板，小心翼翼放置在光刻机上。

    “继续吧。”

    陈河宇对这些操作并不陌生，系统在录入Fan-Out封装技术后，脑子里便多出几十年芯片封测经验，可以看出操作员的动作非常娴熟。

    处理到这里，操作员又使用旋涂机将光刻胶涂在晶圆上，因为光刻胶是感光性的，可以通过紫外光曝光后改变化学性质，形成复杂的电路图案。

    然后将晶圆浸泡在显影液中，显影剂会去除未暴露在紫外光下的光刻胶，只保留曝光后的图案区域，这一步会将电路图案转移到硅片表面。

    完成后，一块晶圆上密密麻麻出现几百个矩形芯片，上面遍布数亿看不见的晶体管。

    接着利用刻蚀工艺，去除未被光刻图案保护的材料，从而让芯片的各种结构和电路显露出来。

    再采用化学气相沉积方法，在晶圆上填充材料，譬如金属、绝缘体或导体，形成不同的电路元件。

    最后是清洗与检查工序，去除残留物和检测潜在缺陷，这有助于确保芯片的质量和可靠性。

    这一步操作需要大量的纯水，尤其在大规模生产中，所以山海微电配备了庞大的水处理设施，以满足生产需求，并确保生产线上的稳定供应。

    “这是在生产大米平板电脑的图形处理器（GPU），设计方案由颂果科技提供。”

    何婷波在旁边解释道。

    只见操作员在芯片上设置金属排线，连接各个电路元件。

    金属排线的设计和制作决定了芯片的布局和电流传输能力，再利用三维封装技术，把芯片封装在陶瓷材料中，一枚最终形态的产品就完成了。

    “陈总，要不要验证一下芯片的功能和性能？”

    何婷波问道。

    “自然要的，你来操作吧，让我见识一下第一代半导体研究工程师的水平。”
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